La implantación de iones es un proceso propio de la ingeniería de materiales por el cual los iones de un material pueden ser implantados en otro sólido, cambiando por tanto las propiedades físicas de este último. La implantación de iones es utilizada en la fabricación de dispositivos semiconductores y en el revestimiento de algunos metales, así como en diversas aplicaciones orientadas a la investigación en ciencia de materiales. Los iones provocan, por una parte cambios químicos en el objetivo, ya que pueden ser de un elemento distinto al que lo compone, y por otra un cambio estructural, puesto que la estructura cristalina del objetivo puede ser dañada o incluso destruida.

La implantación iónica se desarrolló como un método para producir la unión p-n de dispositivos fotovoltaicos a finales de los años 1970 y comienzos de los 1980,^[1]​ junto con el uso de haz de electrones pulsados para el recocido rápido,^[2]​ aunque hasta la fecha no se ha utilizado para la producción comercial.